 | Programme d’études 2024-2025 | English | |
 | Technologies plasma pour le traitement des matériaux | ||
Unité d’enseignement du programme de Master en sciences chimiques , à finalité approfondie (MONS) (Horaire jour) à la Faculté des Sciences |
| Code | Type | Responsable | Coordonnées du service | Enseignant(s) |
|---|---|---|---|---|
| US-M2-CHIMFA-013-M | UE optionnelle | SNYDERS Rony | S882 - Chimie des Interactions Plasma-Surface |
|
| Langue d’enseignement | Langue d’évaluation | HT(*) | HTPE(*) | HTPS(*) | HR(*) | HD(*) | Crédits | Pondération | Période d’enseignement |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Français | 20 | 12 | 15 | 0 | 0 | 3 | 3.00 | 1er quadrimestre |
| Code(s) d’AA | Activité(s) d’apprentissage (AA) | HT(*) | HTPE(*) | HTPS(*) | HR(*) | HD(*) | Période d’enseignement | Pondération |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| S-CHIM-120 | Technologies plasma pour le traitement des matériaux (Partie A) | 20 | 0 | 15 | 0 | 0 | Q1 | |
| S-CHIM-150 | Technologies plasma pour le traitement des matériaux (Partie B) | 0 | 12 | 0 | 0 | 0 | Q1 |
| Unité d'enseignement |
|---|
Objectifs par rapport aux acquis d'apprentissage du programme
- Avoir acquis les compétences professionnelles en relation avec la finalité définissant le diplôme
- -Etre spécialisé dans au moins un sous-domaine de la chimie
- -Etre initié à la recherche scientifique et au monde de la recherche
- -Pouvoir s'intégrer dans un environnement interuniversitaire et participer activement à des collaborations scientifiques
- Contribuer, seuls ou en équipe, à la conduite et à la réalisation d'un projet de développement d'envergure en lien avec les sciences chimiques
- -Pouvoir mobiliser, articuler et valoriser les connaissances et les compétences acquises
- -Faire preuve d'autonomie et être capable de travailler seul ou en équipe
- Gérer des travaux de recherche, de développement ou d'innovation relevant des sciences chimiques et/ou de leurs applications
- -Etre capable d'appréhender une problématique inédite relevant des sciences chimiques
- -Etre capable de mobiliser leurs connaissances de manière efficace, d'identifier leurs limites, de conduire une recherche méthodique et d'analyser de manière critique des informations scientifiquement valides
- -Pouvoir proposer des solutions éventuellement innovantes à des problématiques ciblées, ce qui exige également l'écoute et le respect de chacun, la capacité d'argumenter et celle d'instaurer des débats constructifs
Acquis d'apprentissage de l'UE
A l'issu du cours l'étudiant sera capable de: - Décrire les spécificités des plasma froids - Décrire le fonctionnement d'une décharge magnétron - Décrire le fonctionnement d'un procédé PECVD - Expliquer les mécanismes mis en jeu lors de la synthèse de films minces par les technologies plasma
Contenu de l'UE : descriptif et cohérence pédagogique
Description du milieu plasma, caractéristiques des plasmas froids, pulvérisation magnétron (réactive), méthodes impulsionnelles, procédés PECVD, cas de la polymérisation plasma, croissance de films minces
Compétences préalables
Théorie cinétique des gaz, électricité, structure de l'atome, distributions statistiques, spectre électromagnétique, phénomène de diffusion, structure cristalline des solides, caractérisation spectroscopique des surfaces
Type(s) et mode(s) d'évaluation Q1 pour l'UE
- Examen oral - En présentiel
Commentaire sur les évaluations Q1 de l'UE
Lecture et préparation d'un article ne lien avec le cours. Ce dernier est présenté lors de l'examen et est suivi d'une séance de question/réponse.
Méthode de calcul de la note globale pour l'évaluation Q1 de l'UE
10 points pour la présentation de l'article et 10 points pour la discussion.
Type(s) et mode(s) d'évaluation rattrapage Q1 (BAB1) pour l'UE
- Examen oral - En présentiel
Commentaire sur les évaluations rattrapage Q1 (BAB1) de l'UE
Sans objet
Méthode de calcul de la note globale pour l'évaluation rattrapage Q1 (BAB1) de l'UE
pas applicable
Type(s) et mode(s) d'évaluations Q3 pour l'UE
- Examen oral - En présentiel
- Présentation orale - En présentiel
Commentaire sur les évaluations Q3 de l'UE
Lecture et préparation d'un article en lien avec le cours. Ce dernier est présenté lors de l'examen et est suivi d'une séance de question/réponse.
Méthode de calcul de la note globale pour l'évaluation Q3 de l'UE
10 points pour la présentation de l'article et 10 points pour la discussion.
Types d'activités
| AA | Types d'activités |
|---|---|
| S-CHIM-120 |
|
| S-CHIM-150 |
|
Mode d'enseignement
| AA | Mode d'enseignement |
|---|---|
| S-CHIM-120 |
|
| S-CHIM-150 |
|
Supports principaux non reproductibles
| AA | Supports principaux non reproductibles |
|---|---|
| S-CHIM-120 | Transparents contenant les figures à disposition |
| S-CHIM-150 | Aucun |
Supports complémentaires non reproductibles
| AA | Support complémentaires non reproductibles |
|---|---|
| S-CHIM-120 | Sans objet |
| S-CHIM-150 | Aucun |
Autres références conseillées
| AA | Autres références conseillées |
|---|---|
| S-CHIM-120 | B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, Wiley & Sons D. L. Smith, Thin Films Deposition, McGraw-Hill, Inc. M. Ohring, Materials Sciences of Thin Films, Academic Press |
| S-CHIM-150 | Sans objet |